ESTUDO DA OBTENÇÃO E CARACTERIZAÇÃO DE MATERIAIS ABSORVEDORES DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA (8,2 - 12,4 GHz) BASEADOS EM FILMES FINOS DE ÓXIDO DE COBRE, COBRE E ALUMÍNIO
DOI:
https://doi.org/10.69609/1516-2893.2024.v30.n1.a3838Palabras clave:
Materiais absorvedores de radiação eletromagnética, filmes finos, magnetron sputteringResumen
O presente trabalho tem como objetivo estudar filmes finos absorvedores de radiação eletromagnética na faixa de frequências compreendidas entre 8,2 - 12,4 GHz, baseados nos elementos químicos cobre e alumínio, com espessuras entre 30 e 100 nm (em passos de 10 nm), depositados sobre substrato do polímero poli (tereftalato etileno), pela técnica magnetron sputtering. Os resultados obtidos demonstram que filmes de cobre com espessuras entre 30nm a 100nm possuem valores médios da energia absorvida entre 10 % (- 0,50 dB) a 48 % (- 2,85 dB), e para o alumínio entre 2,2% (- 0,10 dB) a 10% (- 0,50 dB). A menor absorção do alumínio em relação ao cobre está relacionada a menor condutividade elétrica do alumínio, o que diminui a energia dissipada pelo processo de despolarização elétrica, provocando uma menor absorção da energia da onda eletromagnética.
Citas
BHAT, K. S.; DATTA, S. K.; SURESH, C. Electrical and microwave characterization of kanthalthin films: temperature and size effect, Thin Solid Films 332 (1998) 220 224.
COSTA, D. S. Estudo da Influência da Taxa de Deposição de Filmes Ultrafinos de Cu2O Visando Aplicação como Absorvedores de Micro-ondas (8,2 a 12,4 GHz). Dissertação de Mestrado, UNIFESP, São José dos Campos, 2014.
FUJIEDA, T., et al. Electromagnetic Wave Absorption material and an associated device. US Patent No 0035896, 2005.
NOHARA, E. L. Estágio de doutorado-sanduíche no Moscow Power Engineering Institute. Financiamento FAPESP (Processo 98/15839-4). Instituto Tecnológico de Aeronáutica. 12/2001-06/2002.
SAVILLE, P., HUBER, T., MAKEIFF,D., Fabrication of Organic Radar Absorbing Materials - A report on the TIF Project, Defence R&D Canadá – Atlantic, 2005.
SOETHE, V. L. Deposição de filmes metálicos sobre poli (tereftalato de etileno) via tríodo magnetron sputtering: influência da corrente e da voltagem nas propriedades dos filmes. Dissertação de Mestrado, UDESC, Santa Catarina, 2004.
SOETHE, V. L.; NOHARA, E. L.; FONTANAL, C.; REZENDE, M. C. “Influência da espessura de filmes finos de alumínio na atenuação da energia da onda eletromagnética na faixa de microondas (8 – 12GHz)”, Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, v. 27, n. 2, 63-67, 2008.
SOETHE, V.L., Filmes finos absorvedores de microondas obtidos pelo processo de deposição física em fase vapor. Tese de doutorado. Instituto Tecnológico de Aeronáutica. 2009.
THE WASSENAAR ARRANGEMENT. Wassenaar Arrangement on Export Controls for Conventional Arms and Dual-Use Goods and Technologies. 2019. Disponível em: https://www.wassenaar.org/>. Acesso em: 12 jan. 2019.
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